請選擇參數(shù)!


-
高真空電子東蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB700
高真空電子東蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB700真空室結(jié)構(gòu):U形前開門真空室
-
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD450真空室結(jié)構(gòu):球形前開門真
-
高真空電子東及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--DZS500真空室結(jié)構(gòu):U形前開門
-
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500真空室結(jié)構(gòu):方形前開門真空室
-
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--TRP450真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開門真空
-
Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE
Plasmionique支持CVD/ALD/PECVD/RIE,加拿大進口桌面式設備,模塊
-
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器
Evap-4PowerSupply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器,具有高
-
Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器
MiniE-BeamEvaporator小型電子束蒸發(fā)器是一種用于高精度薄膜沉積的
