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NEXUS IBD-LDD離子束沉積設(shè)備PX 2000
MBE 8000分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
AD-230LP等離子體沉積ALDPX 2000
AT410/AT610/AT810熱原子層沉積PX 1550
SENTECH ALAL實時監(jiān)控器PX 2000
SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統(tǒng)PX 2000
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVDPX 2000
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALDPX 1550
埃沃維克EvoVac 物理氣相沉積平臺PX 2000
EC400高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 2000
Amod物理氣相沉積平臺PX 2000
ESC-101新型離子槍PX 2000
PlasmaPro 1000等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
NEXDEPAE物理氣相沉積平臺PX 2000
PlasmaPro 100 ICPCVD電感耦合等離子體化學氣相沉積ICPCVDPX 2000
COVAP科瓦普物理氣相沉積平臺PX 2000
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 2000
MBE 6000Riber分子束外延系統(tǒng)PX 2000
Beneq C2R--空間原子層沉積ALDPX 2000
MBE 49分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBEPX 2000
MBE 412RIBER分子束外延4 英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)PX 2000
Compact 21MBE分子束外延系統(tǒng)PX 2000
Genesis ALD原子層沉積儀器ALDPX 2000
Seehund® A 系列氣相分解金屬沾污收集(VPD)設(shè)備PX 2000
Shale® A 系列8英寸等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備PX 2000
捷尼賽思原子層沉積PX 2000
貝內(nèi)克 C2R超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜PX 2000
TFS 500原子層沉積研究設(shè)備PX 2000
TFS 200原子層沉積研究設(shè)備PX 2000
Beneq 轉(zhuǎn)換原子層沉積PX 2000
Beneq ProdigyALDPX 2000
Beneq Transform® 300ALDPX 2000
G10-碳化硅碳化硅沉積系統(tǒng)PX 2000
CCS系統(tǒng)化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 2000
AIX G5+ C化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 2000
AIX G5 WW C化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 2000
AIX 2800G4-TM化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 2000
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
等離子體增強原子層沉積PEALD
熱原子層沉積
桌面原子層沉積系統(tǒng)ALD
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟型
高真空電子?xùn)|蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB700
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD450
高真空電子?xùn)|及熱阻薄膜沉積系統(tǒng)--DZS500
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
原子層沉積系統(tǒng)
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學儀器有限公司
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