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森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500PX 1443
CGST3100全自動(dòng)去膠機(jī)PX 1700
CG-P系列等離子清洗機(jī)PX 1700
干式超聲波清洗機(jī)PX 0
FPTOR-ICPRIE-ICP-RIE感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)PX 3327
FPSEM-icp200e-ICPVCD電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3327
Wintech ICP-200微蕓電感耦合等離子體刻蝕機(jī)PX 0
Wintech CCP-200微蕓電容耦合等離子體刻蝕機(jī)PX 0
60升干法清洗設(shè)備等離子清洗活化設(shè)備PX 0
FPESI-E3611離子體灰化蝕刻系統(tǒng)PX 3327
DISC-ICP-601/801/1201/感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)(ICP)PX 0
DISC-RIE-601/801/1201反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)PX 0
DISC-IBE-150C/200C離子束刻蝕機(jī)(IBE)PX 0
SAT 100等離子清洗機(jī)廠家PX 0
SAT 210等離子清洗機(jī)PX 0
SAT 320賽奧特(SAT)粉末/粉體/顆粒等離子處理PX 0
ZHENHUA震華真空等離子清洗機(jī)干法清洗環(huán)保工藝PX 0
PM-20LN普樂斯 20L實(shí)驗(yàn)型真空等離子清洗機(jī)PX 0
SAT-5D(MFC)內(nèi)置MFC等離子清洗機(jī)PX 0
線性寬幅等離子清洗系統(tǒng)PX 0
全自動(dòng)微波等離子清洗系統(tǒng)PX 0
SAT 510等離子刻蝕PX 0
SAT 620等離子灰化PX 0
RIE-10NR日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備PX 3015
VPC-500F8普樂斯半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)PX 0
離子污染度測試儀系統(tǒng)PX 2233
離子污染度測試系統(tǒng)PX 2233
離子污染度測試儀PX 2233
ICP-5000型全自動(dòng)電感耦合等離子體刻蝕機(jī)PX 2233
全自動(dòng)電感耦合等離子體刻蝕機(jī)(ICP-500)PX 2233
ICP-2B型標(biāo)準(zhǔn)電感耦合等離子體刻蝕機(jī)PX 2233
感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)-武漢賽斯特PX 2233
固態(tài)微波遠(yuǎn)程等離子體源|半導(dǎo)體清洗|刻蝕PX 0
PECVD/ICP Etcher等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PX 0
P-10臺式等離子蝕刻臺式等離子蝕刻系統(tǒng)PX 0
ICP刻蝕——感應(yīng)耦合等離子體刻蝕PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
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Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD
全自動(dòng)去膠機(jī)
TASLimage固體徑跡蝕刻測量系統(tǒng)
等離子清洗機(jī)
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森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500
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大氣常壓等離子處理機(jī)器
過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
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